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【制造过程测试技术教育部重点实验室讲坛】清华大学孟永钢教授学术报告
作者:  发布时间:2023-03-13    阅读次数:1818

2023年3月10日上午9:00,清华大学的孟永钢 教授在制造学院会议室东6D-305为我院师生带来了一场题为《近场光刻原理与技术》的学术报告。

       

报告中,孟永钢教授首先对近场光刻原理与技术进行了背景介绍,其中包括光刻加工的应用场景、对比分析现代纳米加工技术的技术指标、表面等离子体透镜应用现状等。随后,孟永钢教授针对旋转式近场光刻系统,详细介绍了飞行头的飞行仿真计算、飞行头加工及装配、等离子体透镜的加工及安装等。近场光刻试验分为有机光刻胶和无机光刻胶TeOx两种,其中有机光刻胶着重于过渡区飞行方案、加卸载方案的设计,而无机光刻胶理论精度可达到20nm,实际测试精度则为20~30nm之间,其精度取决于光刻加工所使用的结构和材料,相较于传统的70nm精度光刻机有着极大的提高。


孟永钢教授从服务国家先进技术产品需求的角度出发向大家进行了团队数十年对近场光刻的研究以及成果展示,报告内容丰富,将一些高深学术问题讲解得简单易懂。在报告结束后,孟永钢教授和在场的老师和学生们展开了激烈的讨论,使大家对近场光刻原理与技术有了更深刻的认识。


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